-
旋轉等離子增強CVD化學沉...
旋轉等離子增強CVD化學沉積系統十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾,旋轉等離子增強CVD...
-
雙溫區滑道旋轉管式爐CVD...
雙溫區滑道旋轉管式爐CVD系統十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾,雙溫區滑道旋轉管式爐C...
-
等離子增強物理化學氣相沉積...
等離子增強物理化學氣相沉積HPCVD包括一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計系統,等離...
-
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝...
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置包括三溫區管式爐,特殊設計的爐管及配套氣路一組,晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置通過特殊設計的管...
-
高真空迷你cvd實驗室設備
高真空迷你cvd實驗室設備核心是一款迷你管式爐,采用電阻絲加熱,設備*高溫度可達1200℃,高真空迷你cvd實驗室設備采...
-
卷對卷式PECVD
卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備,該卷對卷式PECVD適合用于石墨烯在卷材上的連續生長
-
?單溫區旋轉PECVD石墨...
?單溫區旋轉PECVD石墨烯制備廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學實驗上,該單溫區旋轉PECVD石墨烯制備適合顆粒型樣品...
-
1200℃單溫區3路質量供...
1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區3路質...
久久E热在这里只有精品99,日本黄页网站免费观看不卡速,久久精品国产72国产精,国产亚洲精品俞拍视频